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Metal (Multilayer)
设备规格
工作尺寸:
250mm x 250mm x 10面
机台尺寸:
L 3.5M x W 2.2M x H 2.6M
产能:
UFE-11005P2 2” 63K/Mon
计算基础:
24hr/26Day
设备特色
全系统可搭配2”, 4”, 6”治具生产
针对多层薄膜、厚膜设计
Low Damage磁控溅镀系统
极薄膜沉积、均匀稳定
低温成膜、制程温度监控
模块化设计方便保养
可整合自动化上下料系统
多层金属膜推力>50g